空乏層とは?
64文字以内で説明
半導体におけるキャリアの存在しない層。
投稿者: rootさん (2010-03-15 17:38:07)
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空乏層出典:フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』移動:ナビゲーション,検索空乏層(くうぼうそう、depletionlayer)とは、半導体のPN接合などでみられる、キャリアがほとんどなく、電気的に絶縁された領域のこと。欠乏層とも言う。[編集]概要半導体のPN接合部分やショットキー接合、MOS接合において見られる、電子や正孔(キャリア)のほとんど存在しない領域。多数キャリアを欠くことで帯電し、電気二重層と内蔵電場を形成する。キャリアの移動に対しては1種の障壁として作用する。空乏層の幅は印加
http://ja.wikipedia.org/wiki/%E7%A9%BA%E4%B9%8F%E5%B1%A4
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