フォトリソグラフィとは?
64文字以内で説明
物質に部分的にを当てて化学反応させることで、不要部分を選択的に削りとる手法。CPUなどの集積回路はこれを利用して製造する。
投稿者: rootさん (2010-06-04 23:36:30)
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フォトリソグラフィ出典:フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』移動:ナビゲーション,検索半導体素子製造におけるフォトリソグラフィ。レジストの感光を防ぐ為に波長の長い黄色い照明を使用したクリーンルームで行われる。フォトリソグラフィ(英:Photolithography)は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などとも言う)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、半導体素子、プリント基板、印刷版、液晶ディスプ
http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%82%A9%E3%83%88%E3%83%AA%E3%82%BD%E3%82%B0%E3%83%A9%E3%83%95%E3%82%A3
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